應(yīng)用領(lǐng)域四半導體摻雜源
發(fā)布時間：2017-01-20發(fā)布者：[author]瀏覽次數(shù)：
主要用于半導體器件和集成電路的擴散、摻雜、刻蝕、離子注入，在離子植入中用作硼源，在半導體應(yīng)用中提供全金屬分析。硅的P型擴散、離子注入、金屬的等離子體刻蝕。高純硼和有機硼的制取，摻雜、蝕刻、光纖維的制造、擴散。
3.用于醫(yī)藥工業(yè)的中間體；可用于有機合成的優(yōu)良催化劑，如酯化、烷基化、聚合、異構(gòu)化、磺化、硝化等；鑄鎂及合金時的防氧化劑；是制備鹵化硼、元素硼、硼烷、硼氫化鈉等的主要原料。
